ITO导电膜

ITO导电膜

采用磁控溅射的方法得到的高技术产品
ITO导电膜是指采用磁控溅射的方法,在透明有机薄膜材料上溅射透明氧化铟锡(ITO)导电薄膜镀层并经高温退火处理得到的高技术产品。ITO导电膜是指采用磁控溅射的方法(ITO薄膜的制备方法有蒸发、溅射、反应离子镀、化学气相沉积、热解喷涂等,但使用最多的是反应磁控溅射法),在透明有机薄膜材料上溅射透明氧化铟锡(ITO)导电薄膜镀层并经高温退火处理得到的高技术产品。一般来说,在相同的工艺条件和性能相同的PET基底材料的情况下,ITO膜层越厚,PET-ITO膜的表面电阻越小,光透过率也相应的越小。
    中文名:ITO导电膜 外文名: 所属品牌: 方式:蒸发、溅射、反应离子镀 薄膜厚度:0.188±10% 面电阻:300~500 Ω/□

参数

高阻抗ITO导电膜

高阻抗ITO导电薄膜PET-ITO主要应用于移动通讯领域的触摸屏生产。

产品参数:

面电阻:300~500Ω/□

面电阻均匀性:MD≤±3%,TD≤±6%

薄膜厚度:0.188±10%

线性度(MD):≤1.5%

全光线透过率:≥86%

表面硬度(铅笔硬度):≥3H

热稳定性:(R-R0)/R:±20%

热收缩率:MD≤1.0%,TD≤0.8%

加热卷曲:≤10mm

低阻抗ITO导电膜

低阻抗ITO导电膜可用于对导电性能要求比较高的领域,如:用于薄膜太阳能电池的透明电极、电致变色器件的电极材料、薄膜开关等领域。

产品参数:

薄膜厚度:0.175±10mm

雾度:<2%

宽度:406/360±2mm

粘附:100/100

卷曲:≤10mm

透过率:≥80%

表面电阻:90±15Ω/□

面电阻均匀性:<7%

热收缩:MD≤1.3,TD≤1.0

热稳定性:

高温:80oC,120hr≤1.3

低温:-40oC,120hr≤1.3

热循环:-30oC—80oC≤1.3

热/湿度:60oC,90%RH,120hr≤1.3

产品介绍

ITO薄膜的制备方法有蒸发、溅射、反应离子镀、化学气相沉积、热解喷涂等,但使用最多的是反应磁控溅射法。nITO膜层的厚度不同,膜的导电性能和透光性能也不同。一般来说,在相同的工艺条件和性能相同的PET基底材料的情况下,ITO膜层越厚,PET-ITO膜的表面电阻越小,光透过率也相应的越小。

展览会

2014第十三届深圳国际触摸屏展览会

时间:2014年11月25日—27日

地点:深圳会展中心

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