應用
針對壓印光刻工藝實現圖章保真複型對阻蝕膠薄膜的均勻度和應力分布的要求，對勻膠過程中的時間、轉速和加速度等參數進行了分析，并采用基片曲率法的Stoney公式及其近似計算公式，對不同參數環境下的薄膜應力及應力梯度分布作了計算分析，通過對比幾組試驗參數的應力分析結果，驗證了薄膜應力的大小和應力梯度的分布主要與勻膠時間和速度有關，而與加速度的關系較小。
鑒别方法
1、一次應力為平衡壓力與其它機械載荷所必須的法向應力或剪應力。一次應力分為以下三類：1．一次總體薄膜應力是影響範圍遍及整個結構的一次薄膜應力（primary membrane stress）。在塑性流動過程之中一次總體薄膜應力不會重新分布，它将直接導緻結構破壞。
2．一次局部薄膜應力應力水平大于一次總體薄膜應力，但影響範圍僅限于結構局部區域的一次薄膜應力。當結構局部發生塑性流動時，這類應力将重新分布。若不加以限制，則當載荷從結構的某一高應力區傳遞到另一低應力區時，會産生過量塑性變形而導緻破壞。
3.一次彎曲應力平衡壓力或其他機械載荷所需的沿截面厚度線性分布的彎曲應力。二次應力為滿足外部約束條件或結構自身變形連續要求所須的法向應力或剪應力。二次應力的基本特征是具有自限性，即局部屈服和小量變形就可以使約束條件或變形連續要求得到滿足，從而變形不再繼續增大。隻要不反複加載，二次應力不會導緻結構破壞。峰值應力由局部結構不連續或局部熱應力影響而引起的附加在一次加二次應力上的應力增量。
